Strukturabhängige Adaption von Waferhalter und Polierscheibe beim Chemisch-Mechanischen Polieren (CMP) von MEMS zur Verbesserung der globalen Planarität
Categories |
Beiträge in Büchern (reviewed) |
Year | 2011 |
Authors | D. Miletic, S. Cvetkovic, L. Rissing |
Published in | 65. Ausgabe Jahrbuch Schleifen, Honen, Läppen und Polieren (SHLP), Vulkan Verlag,Essen, Kap. 3, S. 343-358 |