ForschungPublikationen
Maskless Nonlinear Lithography with Femtosecond Laser Pulses

Maskless Nonlinear Lithography with Femtosecond Laser Pulses

Kategorien Beiträge in Büchern
Jahr 2006
Autoren J. Koch, E. Fadeeva, M. Engelbrecht, C. Ruffert, H.H. Gatzen, A. Ostendorf, B.N. Chichkov
Veröffentlicht in Applied Physics A: Materials Science & Processing, Springer-Verlag GmbH, A 82, pp. 23-26, ISSN: 0947-8396