Institut für Mikroproduktionstechnik Forschung Publikationen
Slurry Comparison for Chemical-mechanical Polishing (CMP) of Silicon Carbide (SiC)

Patterning Techniques for Thick SmCo Layers

Kategorien Konferenz (reviewed)
Jahr 2004
Autoren T. Budde, H.H. Gatzen
Veröffentlicht in Proc. 18th International Workshop on High-Performance Magnets and Their Applications 2004, Annecy, France, pp. 805-816