ResearchPublications
Strukturabhängige Adaption von Waferhalter und Polierscheibe beim Chemisch-Mechanischen Polieren (CMP) von MEMS zur Verbesserung der globalen Planarität

Strukturabhängige Adaption von Waferhalter und Polierscheibe beim Chemisch-Mechanischen Polieren (CMP) von MEMS zur Verbesserung der globalen Planarität

Categories Beiträge in Büchern (reviewed)
Year 2011
Authors D. Miletic, S. Cvetkovic, L. Rissing
Published In 65. Ausgabe Jahrbuch Schleifen, Honen, Läppen und Polieren (SHLP), Vulkan Verlag,Essen, Kap. 3, S. 343-358