ForschungPublikationen
Chemisch-Mechanisches Polieren von Wafern für Mikrosysteme

Chemisch-Mechanisches Polieren von Wafern für Mikrosysteme

Kategorien Beiträge in Büchern
Jahr 2004
Autoren H.H. Gatzen, C. Morsbach, C. Kourouklis
Veröffentlicht in 61. Jahrbuch Schleifen, Honen, Läppen und Polieren, Vulkan Verlag, Essen, pp. 317-329