Strukturabhängige Adaption von Waferhalter und Polierscheibe beim Chemisch-Mechanischen Polieren (CMP) von MEMS zur Verbesserung der globalen Planarität
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Beiträge in Büchern (reviewed) |
| Jahr | 2011 |
| Autoren | D. Miletic, S. Cvetkovic, L. Rissing |
| Veröffentlicht in | 65. Ausgabe Jahrbuch Schleifen, Honen, Läppen und Polieren (SHLP), Vulkan Verlag,Essen, Kap. 3, S. 343-358 |
