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Beschichtungstechnik und Lithografie (V2/Ü1) - Belegnummer 31459

Aktualisiert am 06.09.2015

Art der Vorlesung: Vorlesung/Übung
Semester: Wintersemester
Studium: Hauptstudium / Master
Betreuer: Daniel Klaas
Alexander Kusch
Dozenten/Professoren: Dipl.-Ing. d. Klaas
E-Mail: klaasimpt.uni-hannover.de
Creditpoints: 4
Vorlesungstag/Uhrzeit: Mi. 12.00 - 14.14 Uhr
Raum/Ort: Seminarraum 1a+1b, Gebäude 8110 (PZH)
Termin Beginn am 13. Januar 2015

Wichtige Information

Die Vorlesung wird ab dem Wintersemester 2015/2016 nicht mehr angeboten. 

Zur Prüfungsvorbereitung gibt es ingesamt 3 Übungen jeweils am 13.1., 20.1. und 27.1.2016 von 12-14.15 Uhr im Seminarraum 1a und 1b.

Die dazu gehörigen Skripte können ab Vorlesungsbeginn Mitte Oktober im IMPT bei Herrn Dipl.-Ing. D. Klaas abgeholt werden.

 

Beschreibung

Ziel der Vorlesung ist die Vermittlung eines physikalischen und chemischen
Grundverständnisses der in der Mikrotechnologie zum Einsatz kommenden
Prozesse sowie deren mathematische Beschreibung. Dargestellt werden
physikalische (PVD) und chemische (CVD) Wachstumsprozesse dünner
Schichten, Analysetechniken sowie optische Grundlagen der Photolithographie.

Inhalte

  • Grundlagen der Materialwissenschaften

    • Kristallstruktur und Wachstum dünner Schichten

  • Vakuumtechnologie

    • Theorie zur Gaskinetik
    • Viskoser und molekularer Gastransport im technischen Vakuum

  • Atomarer Filmniederschlag

    • Thermodynamische Grundlagen der physikalischen (PVD) und chemischen (CVD) Abscheidung von Filmen aus der Gasphase
    • Charakterisierung dünner Schichten

  • Fotolithografie

    • Optische Grundlagen, Fresnelbeugung bei Kontakt- und
      Proximitybelichtung, Fraunhoferbeugung bei Projektionsbelichtung
    • Chemie von Photolacken
    • Einführung in die Elektronenlithografie

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